11月10日，《光掩膜版国产化之路》自主创新大讲堂-星火沙龙之半导体显示行业大讲堂第6场，在深圳南山区君翔达圆满举办。

新纶新材、艾杰旭精细玻璃、广东江丰电子、铭铎科技、世平科技、佛山市思博睿科技、瑞智中佳半导体、海兴圣创、广东成德电子、路维光电等企业代表参加。

深圳市科学技术协会大讲堂为大讲堂的指导单位，由深圳市半导体显示行业协会主办并秉承分享半导体、新材料、显示等行业前沿技术、学术成果的宗旨，为业内人士提供互助合作的创新交流平台。

第6场星火沙龙大讲堂主题《光掩膜版国产化之路》，分享嘉宾是深圳市路维光电有限公司/研发总监司继伟、技术研发部主管雷蒙。

本场大讲堂围绕“mask及其作用-mask的应用行业-mask的种类与特点-TFT和IC用Mask介绍-mask产业链现状-Newway掩膜版国产化之路为主框架展开讲解。

主讲嘉宾开场介绍了mask及其作用:掩膜版(Photomask)，又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。掩膜版是芯片制造过程中的图形“底片”，用于转移高精密电路设计，承载了图形设计和工艺技术等知识产权信息。掩膜版的功能类似于传统照相机的“底片”。

MASK主要应用在微精细图形加工。依据不同的分类方式，掩膜版可分为不同类型。按应用领域来看，掩膜版可应用在：如IC&Bumping（半导体集成电路及封装）、 FPD（平板显示）、电路板、触摸屏及各类电子器件中，细分领域有线路板行业、平板行业、IC行业和其它行业。

在就阐述不同类型MASK特点时：主讲嘉宾以铬版与菲林为例，在表面材质、透光率、最小线宽、精度偏差、线条质量、温度影响、湿度影响、表面防刮能力、寿命、提升产品良率方面进行了对比讲解。

全球发展历程：掩膜版诞生至今约70多年历史，技术演变节奏较慢。第二代掩膜版在二十世纪50年代末60年代初诞生，主要为菲林掩膜版，至今仍在部分行业使用。从目前可预知的替代品情况来看，现阶段无掩膜技术因仅能满足精度要求相对较低的行业(如PCB)中图形转移的需求，且其生产效率低下，无法满足对图形转移精度要求高以及对生产效率有要求的行业运用，故掩膜版行业现阶段技术更迭仍然较慢，目前第五代掩膜版时期，将会有较长的应用时间。

国内发展历程：自从国内第一张大面积高精度铬版掩膜版研发生产开始，掩膜版行业经历萌芽期、快速发展期和高质量发展期。在快速发展期内，我国掩膜版迭代速度较快，不断填补国内空白。2019年我国自主研发11代掩膜版后，迈入国际先进行列，进入高质量发展期。

掩膜版是微电子制造过程中的图形转移工具和母版，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。目前，掩膜版根据产品、用途、组成成分可分为不同种类。

掩膜版产业的上游包括掩膜版核心材料及其制造设备，即掩膜版玻璃基板、掩膜版遮光膜等；中游根据产品的不同分为铬版、干版、液体凸版和凸版;根据用途的不同分为IC、FPD、PCB、MEMS用掩膜版等;根据组成成分的不同，可分为树脂/玻璃基板掩膜版、乳胶/硬质遮光膜掩膜版等；下游主要涉及半导体及相关产业市场，具体包括IC制造、IC封装测试、半导体器件等。

随着我国半导体芯片行业、平板显示行业、触控行业等下游应用领域的产品迭代升级加速，掩膜版行业景气上行，中国掩膜版行业市场规模呈上升态势。主讲嘉宾精彩的讲解赢得现场阵阵掌声......

至此，自主创新大讲堂-星火沙龙之半导体显示行业大讲堂（6场）圆满结束。